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    標準參考物質 NIST SRM 2133 - Si深度剖面中的磷種植

    產品名稱:標準參考物質 NIST SRM 2133 - Si深度剖面中的磷種植

    英文名稱:Phosphorus Implant in Si Depth Profile

    品牌:美國NIST標準物質

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    產品詳情
    - COA - MSDS

    NIST SRM 2133Si深度剖面中磷種植(標準品)旨在用于通過二次離子質譜 (SIMS) 分析技術校準對硅基質中微量和痕量磷的二次離子響應。 SRM 2133 用于校準 SIMS 儀器對磷的響應特定儀器條件下的硅基體。它也可以被實驗室用作校準硅中磷工作標準的轉移標準。該 SRM 由一個 1 cm × 1 cm 的單晶硅襯底組成,該襯底已離子注入同位素 31P,標稱能量為 100 keV。

    360截圖20220215181057125.jpg

    NIST SRM 2133Si深度剖面中磷種植(標準品) 已通過 31P 原子保留劑量認證。劑量以每單位面積的磷質量單位表示。基于 SIMS 分析,提供了關于磷原子濃度隨地表以下深度變化的其他未經認證的信息。



    認證值和不確定性:

    31P 原子的總保留劑量通過放射化學中子活化分析 (RNAA) 確定。將兩種獨立制備的磷參考溶液(其中一種是 NIST SRM 3139a 磷標準溶液,經過磷濃度認證)的等分試樣沉積在鋁箔并作為標準。得到的認證值和擴展不確定度為: 認證值中的不確定度表示為擴展不確定度 U = kuc,其中 k 是 2.0 的覆蓋因子,給出的近似置信水平為 95 %,uc 是計算得出的組合標準不確定度根據 ISO 指南 [1]。組合標準不確定度是通過組合從測量過程中通過不確定度傳播得出或估計的單個標準不確定度獲得的 [1]。 A 型和 B 型標準不確定度分量來自以下主要來源的測量不確定度:(1) 樣品的測量重復和異質性,(2) 比較標準的測量重復,(3) 標準溶液的濃度,(4) 放射化學雜質,(5)標準的體積校準,和(6)載體產量的測定。已考慮所有已知的潛在不確定性來源





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